HOME >> 産業用光源 >> 紫外線UV 露光機・露光装置 >> 特注機　納入実績 弊社のUV(紫外線)露光装置、UV(紫外線)硬化装置は、半導体・リードフレーム、蛍光体などの塗布剤、溶剤の開発用、精密スクリーン版、サーマルヘッド印刷用など様々な紫外線露光のシーンにお応えして参りました。お客様の様々なご要望にお応え致します。特注機も数多く製造しておりますので、是非ご相談下さい。ここでは、その一例をご紹介させて頂きます。 窒素パージ機能付平行光照射実験装置 ■型式 ： UVE-1001SD−DIC ■ランプ出力 ： 1000W 超高圧水銀ランプ ■照射エリア ： φ160�o ■主な用途 半導体、蛍光体などの塗布剤、溶剤の開発用のUV硬化装置。酸化防止の為、窒素雰囲気内での処理を可能にしたパージBOXを搭載。 真空密着機能付きUV平行光露光装置 ■型式 ： UV-K160HC ■ランプ出力 ： 500W　超高圧水銀ランプ ■照射エリア ： φ160�o ■主な用途 半導体、液晶のカバー材料などの開発。マスクがフィルムの場合もあり、真空密着機能をつける。厚みのあるガラスマスク、リジットな材料にも対応。デスクトップタイプで、オールマイティな実験用のUV露光装置です。 精密スクリーン版露光機 ■型式 ： SSH−201H−MS ■ランプ出力 ： 2000W　超高圧水銀ランプ ■照射エリア ： 400 X 400mm ■主な用途 精密スクリーン版、半導体、サーマルヘッド印刷用の高精度の解像度を要求されるため、平行光での露光作業に対応。また従来のメタハラランプに比べて高照度にて、露光時間の短縮と熱による寸法精度のズレを軽減します。 実験、開発用　UV硬化装置 ■型式 ： UV4001H‐M2 ■ランプ出力 ： 4000W　メタルハライドランプﾟ ■照射エリア ： 200 X 200mm　〜　ご要望サイズ ランプ出力1500W〜　　散乱光光源 メタルハライド、水銀ランプをどちらでも使用できるマルチタイプで幅広い波長域に対応しています。 ■主な用途 レジスト開発研究用、量産ラインでのUV硬化の再現および解析用。各種開発、試作用UV硬化。クリーンルームに対応したSUS筐体。 大面積　高平行度 実験開発用露光装置 ■型式 ： UVE−500S1 ■ランプ出力 ： 3500W　超高圧水銀ランプ ■照射エリア ： φ５２０�o ■主な用途 LED素子の試作製造の実験用として、 平行光にて積算露光管理されたUV光でパターニングする装置です。　 ■お問合わせ先 お客様のご要望にお答えしまして、カスタマイズしましてご提供させて頂きます。 ご要望、ご質問等下記までお問合わせ下さい。 株式会社三永電機製作所　UV営業部　　 担当:奥山（おくやま） TEL :06-6379-0010　 メールアドレス: info@san-eielectric.co.jp Copyright (C) SAN-EI ELECTRIC CO.,LTD.